一种基于微透镜阵列的CMOS传感器的显微镜成像方法及系统

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专利状态

一种基于微透镜阵列的CMOS传感器的显微镜成像方法及系统

有效

专利申请进度

申请

2009-06-19

申请公布

2009-11-18

授权

2011-11-09

预估到期

2029-06-19

专利基础信息

申请号	CN200910099938.2	申请日	2009-06-19
申请公布号	CN101581829A	申请公布日	2009-11-18
授权公布号	CN101581829B	授权公告日	2011-11-09
分类号	G02B21/36;G02B13/24;G02B1/00;G02B3/00
分类	光学;
申请人名称	宁波永新光学股份有限公司
申请人地址	浙江省宁波市科技园区明珠路385号

专利法律状态

2011-11-09

发明专利权授予

状态信息

授权
2010-10-06

专利申请权、专利权的转移

状态信息

专利申请权的转移；IPC(主分类):G02B 21/36；变更事项:申请人；变更前权利人:宁波永新光学股份有限公司；变更后权利人:宁波永新光学股份有限公司；变更事项:地址；变更前权利人:315040 浙江省宁波市科技园区明珠路385号；变更后权利人:315040 浙江省宁波市科技园区明珠路385号；变更事项:共同申请人；变更后权利人:南京江南永新光学有限公司；登记生效日:20100826
2010-01-13

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2009-11-18

发明专利申请公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种基于微透镜阵列的CMOS传感器的显微镜成像方法及系统，该方法包括以下步骤：步骤一、在显微镜物镜与由显微镜物镜确定的初次成像面之间设置具有正光焦度的第一透镜组，从而使来自显微镜物镜的光线会聚，将这些光线的会聚面记为第一成像面；步骤二、将经过第一成像面上发射出的光线采用具有正光焦度的第二透镜组进行发散，从而使光线发散出射至CMOS传感器的微透镜凸面上。将来自显微镜物镜的光线，通过第一透镜组和第二透镜组进行二次成像，使得主光线角度与传感器微透镜的主光线角度能较好的匹配，减少因光线损失和避免像素响应降低带来的像面光斑，消除透过传感器的光线强度不均匀(即“阴影”)的现象，具有良好的场曲校正，畸变小于1.2％。

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