在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法

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专利状态

在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法

有效

专利申请进度

申请

2011-05-27

申请公布

2011-10-12

授权

2013-04-24

预估到期

2031-05-27

专利基础信息

申请号	CN201110141171.2	申请日	2011-05-27
申请公布号	CN102213778A	申请公布日	2011-10-12
授权公布号	CN102213778B	授权公告日	2013-04-24
分类号	G02B1/11;G02B1/10;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08
分类	光学;
申请人名称	宁波永新光学股份有限公司
申请人地址	浙江省宁波市科技园区明珠路385号

专利法律状态

2013-04-24

授权

状态信息

授权
2012-02-29

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/11申请日:20110527
2011-10-12

公布

状态信息

公开

摘要

本发明公开了一种在光学材料表面形成高硬度低摩擦光学薄膜的方法，该光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成，在真空度为3.0×10-4a以上，工作温度为60～90℃的条件下，以氧化硅层和碳化硅层构成一个周期，将多层氧化硅层和多层碳化硅层按周期反复交替地蒸着在基体光学材料的表面形成厚度大于4000nm的复合镀层，在碳化硅层的形成过程中渗入氢离子，氧化硅层厚度为10～120nm，碳化硅层厚度为100～1000nm，当复合镀层形成之后，在复合镀层的表面蒸着形成增透层，制成的光学薄膜经测试，硬度可达到2000HV以上，摩擦系数小于0.2，透过率达到85％左右，且价格便宜，寿命可以达到在光学材料表面贴盖的蓝宝石片的四分之一左右，而成本仅有十分之一，可以用来替代光学窗口上使用的蓝宝石片。

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