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专利状态

带双工艺孔的电容器结构

有效

专利申请进度

申请

2016-12-28

授权

2017-09-22

预估到期

2026-12-28

专利基础信息

申请号	CN201621463649.8	申请日	2016-12-28
授权公布号	CN206516490U	授权公告日	2017-09-22
分类号	H01G2/10
分类	基本电气元件;
申请人名称	日新电机（无锡）有限公司
申请人地址	江苏省无锡市新吴区新华路28号

专利法律状态

2017-09-22

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种带双工艺孔的电容器结构，包括电容器壳体，在电容器壳体的顶部盖板上设置两个套管，其特征是：在所述电容器壳体上设置两个工艺孔。所述两个工艺孔设置在两个套管之间，或者设置在电容器壳体的侧部的窄面上。本实用新型采用双工艺孔可以缩短制造周期，提高产品性能。

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