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专利状态
超导磁共振成像系统外壳
有效
专利申请进度
申请
2020-07-09
授权
2020-11-24
预估到期
2030-07-09
专利基础信息
申请号
CN202030367819.8
申请日
2020-07-09
授权公布号
CN306191776S
授权公告日
2020-11-24
分类号
24-01(12)
分类
申请人名称
北京万东医疗科技股份有限公司
申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼
专利法律状态
2020-11-24
授权
状态信息
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称:超导磁共振成像系统外壳。2.本外观设计产品的用途:用于做磁共振检查的超导磁共振成像系统的外壳。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
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