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专利状态

超导磁共振成像系统外壳

有效

专利申请进度

申请

2020-07-09

授权

2020-11-24

预估到期

2030-07-09

专利基础信息

申请号	CN202030367819.8	申请日	2020-07-09
授权公布号	CN306191776S	授权公告日	2020-11-24
分类号	24-01(12)
分类
申请人名称	北京万东医疗科技股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼

专利法律状态

2020-11-24

授权

状态信息

授权

摘要

1.本外观设计产品的名称：超导磁共振成像系统外壳。2.本外观设计产品的用途：用于做磁共振检查的超导磁共振成像系统的外壳。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。

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