一种降噪装置及其降噪阵列和CT机架

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专利状态

一种降噪装置及其降噪阵列和CT机架

有效

专利申请进度

申请

2023-08-31

授权

2024-03-08

预估到期

2033-08-31

专利基础信息

申请号	CN202322369543.8	申请日	2023-08-31
授权公布号	CN220569397U	授权公告日	2024-03-08
分类号	G10K11/172;A61B6/03
分类	乐器；声学;
申请人名称	北京万东医疗科技股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼

专利法律状态

2024-03-08

授权

状态信息

授权

摘要

本申请提供一种降噪装置及其降噪阵列和CT机架，该降噪装置包括：壳体和与壳体配合的壳体盖；壳体包括底板以及分别连接于底板的多个边沿的多个侧板，多个侧板与底板形成容纳空间，容纳空间设置有穿孔板共振吸声结构；壳体盖包括壳体盖基板，壳体盖基板覆盖于壳体形成多面体结构，并且壳体盖基板与壳体的一个侧板之间形成一条缝隙，从而利用窄缝和穿孔板的双重吸声作用提高降噪装置的降噪效果。

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