一种间隙光刻机构及其光刻方法

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专利状态

一种间隙光刻机构及其光刻方法

有效

专利申请进度

申请

2019-12-19

申请公布

2020-03-27

授权

2022-04-08

预估到期

2039-12-19

专利基础信息

申请号	CN201911316488.8	申请日	2019-12-19
申请公布号	CN110928147A	申请公布日	2020-03-27
授权公布号	CN110928147B	授权公告日	2022-04-08
分类号	G03F7/20
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	中航电测仪器股份有限公司
申请人地址	陕西省汉中市经济开发北区鑫源路

专利法律状态

2022-04-08

授权

状态信息

授权
2020-03-27

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种间隙光刻机构及其光刻方法，包括掩膜架，所述掩膜架为两端开口的中空结构，所述掩膜架的上端面用于放置掩膜版，所述掩膜架的下方设置有承片台，所述承片台的上端面用于放置柔性箔板，且用于放置柔性箔板的区域周围设置有若干限位柱，限位柱的上端面高出柔性箔板的光刻胶面，所述承片台能够进入所述掩膜架内；当所述承片台进入所述掩膜架内，且限位柱的上端面与掩膜版的药膜面接触时，掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面之间具有间隙。本发明在光刻时掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面能够形成固定的间隙，避免了两者的接触，从而提高了掩膜版的使用率，并大幅改善产品的外观质量缺陷，提高了产品的合格率。

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