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专利状态
多层高阶HDI板蚀刻装置
有效
专利申请进度
申请
2018-12-25
授权
2020-03-10
预估到期
2028-12-25
专利基础信息
申请号
CN201822184871.X
申请日
2018-12-25
授权公布号
CN210137505U
授权公告日
2020-03-10
分类号
H05K3/06
分类
其他类目不包含的电技术;
申请人名称
奥士康科技股份有限公司
申请人地址
湖南省益阳市资阳区长春工业园龙塘村
专利法律状态
2020-03-10
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型提供一种多层高阶HDI板蚀刻装置。所述多层高阶HDI板蚀刻装置包括两个支撑板;安装板,所述安装板固定安装在两个所述支撑板的顶部;凹槽,所述凹槽开设在所述安装板的顶部;多个导流孔,多个所述导流孔开设在所述凹槽的底部内壁上;集液槽,所述集液槽固定安装在所述安装板的底部,且所述集液槽与多个所述导流孔相连通;水泵,所述水泵固定安装在所述支撑板的一侧;出水孔,所述出水孔开设在所述集液槽的一侧内壁上,且所述出水孔与所述水泵的进水口相连通。本实用新型提供的多层高阶HDI板蚀刻装置具有使用方便、不需要将HDI板放在蚀刻液内、拿取方便、蚀刻速度快、效率高、蚀刻均匀的优点。
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