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专利状态
高渗储层封堵剂深部定点投放的工艺方法
有效
专利申请进度
申请
2021-06-02
申请公布
2022-12-06
授权
2024-03-01
预估到期
2041-06-02
专利基础信息
申请号 CN202110615695.4 申请日 2021-06-02
申请公布号 CN115434659A 申请公布日 2022-12-06
授权公布号 CN115434659B 授权公告日 2024-03-01
分类号 E21B33/13;E21B43/20;E21B43/26
分类 土层或岩石的钻进;采矿;
申请人名称 中国石油天然气集团有限公司
申请人地址 北京市东城区东直门北大街9号
专利法律状态
  • 2024-03-01
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-12-23
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):E21B33/13;申请日:20210602
  • 2022-12-06
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供了一种高渗储层封堵剂深部定点投放的工艺方法。高渗储层封堵剂深部定点投放的工艺方法,包括:步骤S1:地层被压裂形成人工裂缝;步骤S2:人工裂缝中被注入上浮剂形成上层封堵隔板;步骤S3:人工裂缝中被注入下沉剂形成下层封堵隔板;步骤S4:判断人工裂缝是否延伸到封堵剂投放区,若人工裂缝延伸到封堵剂投放区,则执行步骤S5;若人工裂缝延未伸到封堵剂投放区,则执行步骤S6;步骤S5:向人工裂缝中投放封堵剂,并结束;步骤S6,压裂人工裂缝前方的地层,使人工裂缝增长,重复步骤S2至步骤S4。本发明解决了现有技术中高渗储层封堵剂不能实现精准投放的问题。