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专利状态
水平井的井眼轨迹校正方法、装置、设备和存储介质
有效
专利申请进度
申请
2021-04-12
申请公布
2021-11-30
授权
2024-03-26
预估到期
2041-04-12
专利基础信息
申请号
CN202110390087.8
申请日
2021-04-12
申请公布号
CN113719236A
申请公布日
2021-11-30
授权公布号
CN113719236B
授权公告日
2024-03-26
分类号
E21B7/04;E21B44/00;E21B49/00;G06T11/20
分类
土层或岩石的钻进;采矿;
申请人名称
中国石油天然气集团有限公司
申请人地址
北京市东城区东直门北大街9号
专利法律状态
2024-03-26
授权
状态信息
授权
2021-11-30
公布
状态信息
公布
摘要
本申请提供了一种水平井的井眼轨迹校正方法、装置、设备和存储介质,属于石油勘探与开发技术领域。方法包括:基于化学元素参数和笔石参数,分别确定待研究储层的岩相图和笔石图;基于岩相图和笔石图,确定第一对比图;基于笔石图和第一测井曲线,确定第二对比图;基于待研究储层的每个地层的化学元素参数,确定待研究储层的目标储层;基于第一对比图,确定目标储层的目标岩相类型和目标笔石类型;基于第二测井曲线、第二对比图、随钻曲线和随钻解释曲线,确定钻井地层的岩相类型和笔石类型;基于钻井地层的岩相类型和笔石类型与目标岩相类型和目标笔石类型的差别,调整目标井的井眼轨迹,使井眼轨迹对准目标储层,提高了待研究储层的开发效率。
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