一种光学高透消影膜及制备方法

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专利状态

一种光学高透消影膜及制备方法

有效

专利申请进度

申请

2016-12-26

申请公布

2017-04-26

授权

2019-05-21

预估到期

2036-12-26

专利基础信息

申请号	CN201611218142.0	申请日	2016-12-26
申请公布号	CN106597579A	申请公布日	2017-04-26
授权公布号	CN106597579B	授权公告日	2019-05-21
分类号	G02B1/14;C09D4/02;C09D4/06;C09D7/61;G06F3/044
分类	光学;
申请人名称	宁波大榭开发区综研化学有限公司
申请人地址	浙江省宁波市大榭开发区榭西工业区东湖路7号

专利法律状态

2019-05-21

授权

状态信息

授权
2017-05-24

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/14申请日:20161226
2017-04-26

公布

状态信息

公开

摘要

本发明涉及到一种光学高透消影膜及制备方法，其特征在于包括光学透明基膜，所述基膜的第一表面上复合有厚度为1～4μm的加硬层，所述基膜的第二表面上复合有厚度为0.5～2μm的IM层；其中，所述IM层包括下述质量组成：丙烯酸酯类100份，光引发剂0.5‑1.0份，微粒子150‑200份，第一溶剂250‑900份，其中所述微粒子粒径为0.01‑0.3μm，包括金属氧化物、氟化钙和硫化锌，三者的比例为(10‑15):3:2；所述加硬层包括下述质量组成：丙烯酸酯类加硬树脂涂液100份，光引发剂0.1‑0.5份，三甲基氯硅烷1‑5份，第二溶剂12.5‑50份，所述丙烯酸酯类加硬树脂涂液包括下述重量组成：丙烯酸酯类树脂100份,二氧化硅5～15份,第三溶剂90～210份。

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