一种UV通用水冷打印平台机构

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专利状态

一种UV通用水冷打印平台机构

有效

专利申请进度

申请

2021-10-14

授权

2022-03-08

预估到期

2031-10-14

专利基础信息

申请号	CN202122473873.2	申请日	2021-10-14
授权公布号	CN215970743U	授权公告日	2022-03-08
分类号	B41J11/00;B41J29/377;B41J3/407
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	安徽力宇电脑设备制造有限责任公司
申请人地址	安徽省合肥市高新技术产业开发区天智路33号

专利法律状态

2022-03-08

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种UV通用水冷打印平台机构，包括机架结构、打印平台、平台支座、传感器组件、导辊调节机构；机架结构包括机架、安装板、垫块，机架两端固定焊接有安装板,所述机架上部固定连接有一系列垫块；打印平台材料为铝合金，所述打印平台右下部固定连接有进水管接头、出水管接头，所述打印平台中下部连接有气盒；导辊调节机构包括导辊、气缸、连杆、第一连接座、第二连接座、调节垫板。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：水冷式打印平台降低打印材料、打印平台温度，根据不同承印材料，通过导辊调节机构调节承印材料脱离或贴紧打印平台，本实用新型对各种软膜材料、网孔布材料等，都有很好的打印效果，有很好的通用性。

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