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专利状态

玻片及其形成方法

有效

专利申请进度

申请

2009-04-09

申请公布

2010-10-13

授权

2012-07-25

预估到期

2029-04-09

专利基础信息

申请号	CN200910049072.4	申请日	2009-04-09
申请公布号	CN101859022A	申请公布日	2010-10-13
授权公布号	CN101859022B	授权公告日	2012-07-25
分类号	G02B21/34;C23C14/24;C23C14/34;C25D5/02
分类	光学;
申请人名称	上海中晶科技有限公司
申请人地址	上海市漕河泾开发区桂平路680号35号楼

专利法律状态

2012-07-25

授权

状态信息

授权
2010-11-24

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 21/34申请日:20090409
2010-10-13

公布

状态信息

公开

摘要

一种玻片，包括一基板、以及一设置于基板的金属图案。本发明可达到高产量并具有低成本的优势，以及可减少待测物与网格线之间的距离以使待测物与网格线同时落入显微镜的景深范围内。本发明亦揭示一种玻片形成方法。

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