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专利状态
一种低温ITO镀膜腔体
有效
专利申请进度
申请
2021-02-24
授权
2022-01-04
预估到期
2031-02-24
专利基础信息
申请号
CN202120409106.2
申请日
2021-02-24
授权公布号
CN215404467U
授权公告日
2022-01-04
分类号
C23C14/08;C23C14/56
分类
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称
芜湖长信科技股份有限公司
申请人地址
安徽省芜湖市经济技术开发区汽经二路六号
专利法律状态
2022-01-04
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种低温ITO镀膜腔体,其特征在于:包括进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室,带有绝缘层OC的基板进行ITO镀膜时通过进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室、过渡室、缓冲室、出口室,进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室中均设有真空泵,在过渡室和镀膜室中还设有冷肼。冷肼是利用低温表面抽去真空腔体中的杂气和水蒸汽的一种设备,成本低,但可以实现真空泵相同的抽气作用。冷肼的设置增加了抽气能力,从而可有效去除OC材料逸出杂气,实现低温ITO镀膜满架挂片,进一步提升生产效率。
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