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专利状态
一种片式精密薄膜排阻及其制造方法
有效
专利申请进度
申请
2020-01-10
申请公布
2020-06-02
授权
2022-04-22
预估到期
2040-01-10
专利基础信息
申请号 CN202010028158.5 申请日 2020-01-10
申请公布号 CN111223620A 申请公布日 2020-06-02
授权公布号 CN111223620B 授权公告日 2022-04-22
分类号 H01C7/00;H01C17/00;H01C17/12;H01C17/242;H01C17/28
分类 基本电气元件;
申请人名称 广东风华高新科技股份有限公司
申请人地址 广东省肇庆市风华路18号风华电子工业城
专利法律状态
  • 2022-04-22
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-06-02
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种片式精密薄膜排阻制造方法,包括:S1,对基板正面和背面分别印刷出背电极和面电极,以使烧结后形成电极层;S2,通过浸泡工艺做出干胶,曝光显影出掩膜图形,溅射后去除掩膜得到电阻体;所述干胶完全覆盖整个排阻基板;S3,通过激光调阻,实现修改电阻值;S4,通过印刷树脂保护,实现加固保护层;S5,标记印刷,在保护面上印刷标记浆料,然后经高温固化;S6,折条,将产品基片由块状分割成条状;S7,侧封,使用涂银工艺完成背、面电极连接,形成端面电极;S8,折粒,将产品由条状分割成粒状;S9,电镀,将粒状的产品经过电镀;本发明通过浸泡工艺形成了薄膜溅射掩膜遮蔽层,实现片式排阻电阻膜薄膜化,提高电阻质量。