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专利状态
一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2022-05-31
申请公布
2022-07-26
授权
2024-02-27
预估到期
2042-05-31
专利基础信息
申请号 CN202210603006.2 申请日 2022-05-31
申请公布号 CN114789378A 申请公布日 2022-07-26
授权公布号 CN114789378B 授权公告日 2024-02-27
分类号 B24B13/00;B24B1/00;B24B31/112;C09G1/02
分类 磨削;抛光;
申请人名称 福建福晶科技股份有限公司
申请人地址 福建省福州市软件大道89号F区9号楼
专利法律状态
  • 2024-02-27
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-11-01
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):B24B13/00;申请日:20220531
  • 2022-07-26
    公布
    状态信息
    公布
摘要
一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法,该方法在于,将玻璃工件粘结在粘结盘上,选用纳米级磁流变抛光液作为磨料悬浮液,以一定的压力注入抛光容器主体中,在玻璃工件与微孔结构抛光模之间存在液膜,驱动粘结盘使得悬浮在纳米级磁流变抛光液的玻璃工件以一定速率进行旋转,同时,利用垂直方向的磁场驱动抛光液进行缓慢蠕动,使得玻璃工件在长时间内进行切向蠕动摩擦以进行抛光。本发明将机械抛光与磁流变抛光相互结合,经过长时间的切向蠕动摩擦抛光,达到去除光学亚表面损伤的目的,抛光模采用微孔结构的聚氨酯或者绒布,并进一步在抛光模的表面沿着磁场方向开横线阵列槽,方便抛光液在磁场的作用下,沿磁场方向定向运动。