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专利状态
阵列基板及其制备方法、显示面板
有效
专利申请进度
申请
2023-07-10
申请公布
2023-08-11
授权
2024-01-30
预估到期
2043-07-10
专利基础信息
申请号 CN202310836246.1 申请日 2023-07-10
申请公布号 CN116581131A 申请公布日 2023-08-11
授权公布号 CN116581131B 授权公告日 2024-01-30
分类号 H01L27/12;H01L21/77;H10K59/12;H10K59/121
分类 基本电气元件;
申请人名称 惠科股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层,6栋七层
专利法律状态
  • 2024-01-30
    授权
    状态信息
    授权
  • 2023-08-29
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H01L27/12;申请日:20230710
  • 2023-08-11
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请属于显示面板技术领域,提出一种阵列基板及其制备方法、显示面板,其中,阵列基板包括层叠设置的衬底基板、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、第一栅极、层间绝缘层、源极和漏极,其中,有源层包括第一有源层和第二有源层,第一有源层构成沟道区,通过将第一栅极作为有源层的导体化掩膜,对第二有源层进行导体化,不会影响第一有源层的沟道区的延伸宽度,使得沟道区与第一栅极的宽度差值在预设范围内,减少沟道区的扩散现象引起的宽度差值过大的问题,能够同时满足薄膜晶体管的开关特性要求和显示面板的清晰度要求。