显示基板及其制作方法、显示装置

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专利状态

显示基板及其制作方法、显示装置

有效

专利申请进度

申请

2022-02-08

申请公布

2022-05-06

授权

2024-03-19

预估到期

2042-02-08

专利基础信息

申请号	CN202210118796.5	申请日	2022-02-08
申请公布号	CN114447253A	申请公布日	2022-05-06
授权公布号	CN114447253B	授权公告日	2024-03-19
分类号	H10K50/856;H10K59/40;H10K71/00;H10K59/10
分类	基本电气元件;
申请人名称	京东方科技集团股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利法律状态

2024-03-19

授权

状态信息

授权
2022-05-24

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):H01L51/52；申请日:20220208
2022-05-06

公布

状态信息

公布

摘要

本申请提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，显示基板中的光学功能层包括平坦化层以及多个间隔设置的光刻胶块，多个光刻胶块与多个触控电极块一一对应，平坦化层覆盖多个光刻胶块，平坦化层的折射率大于光刻胶块的折射率。通过设置光刻胶块与平坦化层，阵列基板所发出的光线在光刻胶块与平坦层的交界处可发生全反射，使阵列基板所发出的光线能集中在显示基板的正上方，在正视角下显示基板的亮度得到提高，由此实现了显示基板发光效率的提升。通过保留在构图工艺制作多个触控电极块时的部分光刻胶，即可形成多个光刻胶块，不会额外增加制作工序，节约了制作成本，另外也不需再设置能提高发光效率的膜层结构，降低了显示基板的厚度。

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