遮光PC材料及其制备方法_专利查询-品牌网

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专利状态

遮光PC材料及其制备方法

有效

专利申请进度

申请

2020-12-09

申请公布

2021-03-16

授权

2023-12-15

预估到期

2040-12-09

专利基础信息

申请号	CN202011461971.8	申请日	2020-12-09
申请公布号	CN112500692A	申请公布日	2021-03-16
授权公布号	CN112500692B	授权公告日	2023-12-15
分类号	C08L69/00;C08L51/08;C08L27/18;C08L51/04;C08K13/06;C08K9/12;C08K7/28;C08K3/34;C08K9/02;C08K9/06;C08K9/10;C08K5/523
分类	有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物;
申请人名称	公牛集团股份有限公司
申请人地址	浙江省慈溪市观海卫镇工业园东区

专利法律状态

2023-12-15

授权

状态信息

授权
2021-04-02

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):C08L69/00；申请日:20201209
2021-03-16

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及聚合物材料改性技术领域，具体而言，涉及遮光PC材料及其制备方法；本发明的遮光PC材料的制备原料包括：聚碳酸酯、酸刻蚀的玻璃微珠和用偶联剂处理过的滑石粉，其中，用偶联剂处理过的滑石粉搭载于酸刻蚀的玻璃微珠。本发明的遮光PC材料将偶联剂处理过的滑石粉搭载于酸刻蚀的玻璃微珠的微孔或凹陷中，可以改善滑石粉在聚碳酸酯中团聚的问题，使得混料能够均匀分散，进而可以在利用滑石粉和玻璃微珠改性聚碳酸酯，使得制备的PC材料具有遮光性的同时，确保遮光PC材料不会因为混料分散不均匀而应力集中，进而不会大幅降低遮光PC材料的机械强度，即确保改性后的遮光PC材料保持良好的机械强度。

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