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专利状态
一种不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途
有效
专利申请进度
申请
2020-07-28
申请公布
2020-11-27
授权
2021-09-28
预估到期
2040-07-28
专利基础信息
申请号
CN202010739538.X
申请日
2020-07-28
申请公布号
CN111996430A
申请公布日
2020-11-27
授权公布号
CN111996430B
授权公告日
2021-09-28
分类号
C22C27/04;C22C1/04;B22F3/22
分类
冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理;
申请人名称
飞亚达精密科技股份有限公司
申请人地址
广东省深圳市光明新区马田街道禾仓路飞亚达钟表大厦1栋B座6-7楼
专利法律状态
2021-09-28
授权
状态信息
授权
2020-12-15
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):C22C27/04;申请日:20200728
2020-11-27
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提出了一种不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途。所述不受磁场影响的钨铜合金,其特征在于,包括5wt%‑15wt%的Cu、0.1wt%‑0.75wt%的Ti以及82wt%‑94.9wt%的W。本发明的不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途设计新颖,实用性强。
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