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专利状态
一种不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途
有效
专利申请进度
申请
2020-07-28
申请公布
2020-11-27
授权
2021-09-28
预估到期
2040-07-28
专利基础信息
申请号 CN202010739538.X 申请日 2020-07-28
申请公布号 CN111996430A 申请公布日 2020-11-27
授权公布号 CN111996430B 授权公告日 2021-09-28
分类号 C22C27/04;C22C1/04;B22F3/22
分类 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理;
申请人名称 飞亚达精密科技股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市光明新区马田街道禾仓路飞亚达钟表大厦1栋B座6-7楼
专利法律状态
  • 2021-09-28
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-12-15
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C22C27/04;申请日:20200728
  • 2020-11-27
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提出了一种不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途。所述不受磁场影响的钨铜合金,其特征在于,包括5wt%‑15wt%的Cu、0.1wt%‑0.75wt%的Ti以及82wt%‑94.9wt%的W。本发明的不受磁场影响的钨铜合金及其制造方法和用途设计新颖,实用性强。