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专利状态
一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2021-11-05
申请公布
2022-01-28
授权
2022-12-16
预估到期
2041-11-05
专利基础信息
申请号 CN202111306109.4 申请日 2021-11-05
申请公布号 CN113979787A 申请公布日 2022-01-28
授权公布号 CN113979787B 授权公告日 2022-12-16
分类号 C04B41/89;C03C8/00;C03C8/20;C03C8/02;C04B35/14;C04B33/13;C04B33/132
分类 水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕;
申请人名称 蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请人地址 广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园
专利法律状态
  • 2022-12-16
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-01-28
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:在坯体表面施高膨胀面釉;所述高膨胀面釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:60%~79%,Al2O3:23%~29%,碱土金属氧化物:0.2%~0.6%,碱金属氧化物:5.1%~7.1%;在施高膨胀面釉后的坯体表面施渗花面釉;在施渗花面釉后的坯体表面喷墨打印渗花墨水;将喷墨打印渗花墨水后的坯体烧成并抛光,得到所述高耐磨渗花瓷质抛光砖。