用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法

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专利状态

用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法

有效

专利申请进度

申请

2020-05-20

申请公布

2020-08-18

授权

2022-02-11

预估到期

2040-05-20

专利基础信息

申请号	CN202010429731.3	申请日	2020-05-20
申请公布号	CN111548016A	申请公布日	2020-08-18
授权公布号	CN111548016B	授权公告日	2022-02-11
分类号	C03C8/04;C04B41/86
分类	玻璃；矿棉或渣棉;
申请人名称	蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请人地址	广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园

专利法律状态

2022-02-11

授权

状态信息

授权
2020-08-18

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法。所述无光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55.0～60.0%、Al2O3：16.0～20.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：0.01～0.2%、CaO：0.5～2.5%、MgO：0.5～2.0%、K2O：2.5～4.0%、Na2O：1.5～3.0%、BaO：8.0～10.0%，SrO：0.5～2.5%，ZnO：0.5～2.0%，烧失：4.0～6.0%。

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