匀场片组件及核磁共振成像系统

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专利状态

匀场片组件及核磁共振成像系统

有效

专利申请进度

申请

2016-12-14

授权

2017-12-15

预估到期

2026-12-14

专利基础信息

申请号	CN201621370999.X	申请日	2016-12-14
授权公布号	CN206757020U	授权公告日	2017-12-15
分类号	G01R33/385;A61B5/055
分类	测量；测试;
申请人名称	飞利浦（中国）投资有限公司
申请人地址	上海市静安区灵石路718号A1幢

专利法律状态

2018-04-20

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G01R 33/385；专利号:ZL201621370999X；变更事项:专利权人；变更前:飞利浦(中国)投资有限公司；变更后:飞利浦(中国)投资有限公司；变更事项:地址；变更前:200070 上海市闸北区天目西路218号嘉里不夜城21层；变更后:200070 上海市静安区灵石路718号A1幢
2017-12-15

实用新型专利权授予

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供匀场片组件及核磁共振成像系统。匀场片组件包括：包括纵向延伸的底板的保持架，底板上具有沿着纵向间隔设置并用于接收匀场片叠堆的多个匀场片接收部；安放在每个匀场片接收部处的匀场片叠堆；将匀场片叠堆固定到保持架上的紧固件；在匀场片接收部之间并从底板向上延伸的间断凸缘，凸缘单独或与锁片一起形成防止匀场片叠堆移位的限位装置。限位装置在与底板的纵向方向垂直的横向方向上具有突出的突出部，突出部与容纳匀场片组件并沿着梯度线圈轴向延伸的狭槽的侧壁接触，使得匀场片组件除突出部之外的部分与狭槽在沿着梯度线圈的周向的方向上形成间隙。根据本实用新型的匀场片组件不仅具有良好的热绝缘性能，而且能够显著减少因磨损而产生的材料碎屑。

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