一种反射镜调整结构及投影光学系统

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专利状态

一种反射镜调整结构及投影光学系统

有效

专利申请进度

申请

2015-12-31

授权

2016-09-07

预估到期

2025-12-31

专利基础信息

申请号	CN201521139268.X	申请日	2015-12-31
授权公布号	CN205563060U	授权公告日	2016-09-07
分类号	G03B21/28;G02B7/198;G03B21/20
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新园区黄浦路717号11层

专利法律状态

2016-09-07

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种反射镜调整结构及投影光学系统，所述反射镜调整结构包括：具有中空部的基础框架；所述基础框架上设置有3个定位部件；反射镜基座；所述反射镜基座包括与所述基础框架相对设置的调整部和具有倾斜面的承载部；所述反射镜以能够拆卸的方式安装在所述倾斜面上；所述调整部在与所述定位部件相对的位置上设有调整孔；置于所述调整孔和所述定位部件之间的调整弹簧；以及紧固部件；当所述倾斜面穿过所述中空部，通过紧固部件经由所述调整部上的调整孔、以及调整弹簧与所述基础框架上的定位部件相连接；本实用新型解决了由于机械加工精度和组装误差造成的光轴偏移的问题，能够改善光路输出效果，保持光学系统较好的光轴一致性。

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