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专利状态
一种低爬升高达因值聚氨酯保护膜及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2021-06-16
申请公布
2021-10-01
授权
2023-08-11
预估到期
2041-06-16
专利基础信息
申请号 CN202110667561.7 申请日 2021-06-16
申请公布号 CN113462302A 申请公布日 2021-10-01
授权公布号 CN113462302B 授权公告日 2023-08-11
分类号 C09J7/25;C09J7/30;C09J175/04;C09J7/40
分类 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用;
申请人名称 四川东材科技集团股份有限公司
申请人地址 四川省绵阳市市辖区经济技术开发区洪恩东路68号
专利法律状态
  • 2023-08-11
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-10-26
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C09J7/25;申请日:20210616
  • 2021-10-01
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种低爬升高达因值聚氨酯保护膜及其制备方法,其特征是:低爬升高达因值聚氨酯保护膜由顺次的PET薄膜层、底涂层、聚氨酯胶粘剂层、离型层以及PET薄膜层复合组成。制备方法是:将聚氨酯预聚物、异氰酸酯类固化剂、耐温硬化剂、迟缓剂和有机溶剂混合制成聚氨酯胶粘剂;在PET薄膜层单面涂覆底涂液,干燥形成底涂层;将聚氨酯胶粘剂涂覆在底涂层上,再以10~35m/min的线速度通过温度65~130℃、总长度24~45m的烘道烘干,再与单面离型PET薄膜进行复合,熟化,即制得。本发明低爬升高达因值聚氨酯保护膜适用于铜箔胶带在运输、储存和制程过程中,对铜箔胶带的铜箔表面进行保护,性能良好,实用性强。