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专利状态
光学薄膜
有效
专利申请进度
申请
2012-06-21
申请公布
2012-10-17
授权
2015-04-22
预估到期
2032-06-21
专利基础信息
申请号 CN201210208623.9 申请日 2012-06-21
申请公布号 CN102736136A 申请公布日 2012-10-17
授权公布号 CN102736136B 授权公告日 2015-04-22
分类号 G02B1/14;B32B27/00
分类 光学;
申请人名称 四川龙华光电薄膜股份有限公司
申请人地址 四川省绵阳市飞云大道中段363号
专利法律状态
  • 2021-02-23
    专利权质押合同登记的生效、变更及注销
    状态信息
    专利权质押合同登记的生效;IPC(主分类):G02B1/14;登记号:Y2021980000918;登记生效日:20210202;出质人:四川龙华光电薄膜股份有限公司;质权人:中国农业银行股份有限公司绵阳涪城支行;发明名称:光学薄膜;申请日:20120621;授权公告日:20150422
  • 2015-04-22
    授权
    状态信息
    授权
  • 2014-12-17
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):G02B1/10;变更事项:申请人;变更前:绵阳龙华薄膜有限公司;变更后:四川龙华光电薄膜股份有限公司;变更事项:地址;变更前:621000 四川省绵阳市飞云大道中段363号;变更后:621000 四川省绵阳市飞云大道中段363号
  • 2012-12-12
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G02B1/10;申请日:20120621
  • 2012-10-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了光学薄膜,包括高分子材料本体,所述高分子材料本体的至少一个面上设置有复合薄膜层。本发明优化了光学薄膜的结构及组成,使光学薄膜具备优异成型加工性,满足各种成型加工需求;高表面硬度、耐磨及耐刮,能防止对其表面的划伤或损坏,增加的涂层结构可以进一步提升其表面硬度及抗划伤耐磨能力;优异耐候性及耐化学性,符合各种应用需求;此外,本光学薄膜可提供优异的耐热性及尺寸稳定性。