一种双工位同轴光光源及检测装置

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专利状态

一种双工位同轴光光源及检测装置

有效

专利申请进度

申请

2021-12-10

授权

2022-06-14

预估到期

2031-12-10

专利基础信息

申请号	CN202123100674.3	申请日	2021-12-10
授权公布号	CN216747429U	授权公告日	2022-06-14
分类号	G01N21/84;G01N21/01
分类	测量；测试;
申请人名称	广东奥普特科技股份有限公司
申请人地址	广东省东莞市长安镇锦厦社区河南工业区锦升路8号

专利法律状态

2022-06-14

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种双工位同轴光光源及检测装置，双工位同轴光光源包括半透半反单元和遮光装置；半透半反单元沿第一方向的两侧分别设置有发光单元与第一检测工位；半透半反单元沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位与第二检测工位；第一方向与第二方向垂直；当第一检测工位设置有工件时，遮光装置阻挡半透半反单元至第二检测工位之间的光路；当第二检测工位设置有工件时，遮光装置阻挡半透半反单元至第一检测工位之间的光路。当工件的位置发生变化时，仅需切换遮光装置的遮挡位置即可完成检测位置的切换，降低了操作的繁琐性，提高了双工位同轴光光源及检测装置的灵活性。

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