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专利状态
抓取式西瓦淋釉装置
有效
专利申请进度
申请
2013-09-17
申请公布
2013-12-25
授权
2014-12-10
预估到期
2033-09-17
专利基础信息
申请号
CN201310426304.X
申请日
2013-09-17
申请公布号
CN103467138A
申请公布日
2013-12-25
授权公布号
CN103467138B
授权公告日
2014-12-10
分类号
C04B41/86
分类
水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕;
申请人名称
广东摩德娜科技股份有限公司
申请人地址
广东省佛山市南海区狮山镇小塘三环西工业开发区
专利法律状态
2014-12-10
授权
状态信息
授权
2014-01-22
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):C04B 41/86申请日:20130917
2013-12-25
公布
状态信息
公开
摘要
本发明公开一种抓取式西瓦淋釉装置,包括有间距平行布设的西瓦输入输送带、西瓦输出输送带以及淋釉区,若干西瓦夹头沿着输送带布设,第一气缸驱动第一转轴带动西瓦夹头上下摆动,第一转轴安装在升降架上,第一电机和曲柄连杆机构驱动升降架上下滑动,升降架安装在横移架上,横移架架设在一组轨道横梁上,横移架由同步轮和同步带驱动往复移动,对应输入输送带上西瓦的前端设前挡板,前挡板固定在升降板,升降板固定在立杆上,立杆与曲臂铰接,曲臂由连杆和第二气缸驱动往复摆动,西瓦的非夹持侧设有侧挡板,侧挡板上下摆动地固定在第二转轴上,第二转轴安装在机架上,第三气缸驱动第二转轴带动侧挡板上下摆动,实现了机械化自动淋釉功能。
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