N型钝化接触电池的制作系统及方法

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专利状态

N型钝化接触电池的制作系统及方法

有效

专利申请进度

申请

2019-04-29

申请公布

2019-07-02

授权

2023-12-05

预估到期

2039-04-29

专利基础信息

申请号	CN201910355012.9	申请日	2019-04-29
申请公布号	CN109962126A	申请公布日	2019-07-02
授权公布号	CN109962126B	授权公告日	2023-12-05
分类号	H01L31/18;H01L31/0224
分类	基本电气元件;
申请人名称	晶科能源股份有限公司
申请人地址	浙江省嘉兴市海宁市袁花镇袁溪路58号

专利法律状态

2023-12-05

授权

状态信息

授权
2023-11-21

著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):H01L31/18；变更事项:申请人；变更前:浙江晶科能源有限公司；变更后:浙江晶科能源有限公司；变更事项:地址；变更前:314416 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇袁溪路58号；变更后:314416 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇袁溪路58号；变更事项:申请人；变更前:晶科能源有限公司；变更后:晶科能源股份有限公司
2019-07-26

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):H01L31/18；申请日:20190429
2019-07-02

公布

状态信息

公布

摘要

本发明技术方案公开了一种N型钝化接触电池的制作系统以及制作方法，通过PECVD组合边缘隔离技术，解决了LPCVD方法沉积n+多晶硅层绕镀以及PECVD沉积第二掩膜层造成的正面多晶硅薄膜边缘残留的问题，该技术方案可兼容于常规制作P型电池的产线，促进了N型钝化接触高效电池量产推进。

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