一种免下井对井室空间进行测量的装置

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专利状态

一种免下井对井室空间进行测量的装置

有效

专利申请进度

申请

2017-09-22

授权

2018-05-08

预估到期

2027-09-22

专利基础信息

申请号	CN201721227220.3	申请日	2017-09-22
授权公布号	CN207335640U	授权公告日	2018-05-08
分类号	G01B11/22;G01C15/00
分类	测量；测试;
申请人名称	中国有色金属工业昆明勘察设计研究院有限公司
申请人地址	云南省昆明市东风东路东风巷1号

专利法律状态

2018-05-08

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种免下井对井室空间进行测量的装置，属井室空间测量技术领域。本实用新型装置包括铝合金杆(2)、分别固定在铝合金杆(2)上的电子罗盘(1)、铝合金杆(2)、方向滑动滚珠(3)、硬塑井盖(4)、激光测距仪(5)、及摄像头(6)；其连接关系为：电子罗盘(1)固定在铝合金杆(2)的顶部；硬塑井盖(4)通过方向滑动滚珠(3)与铝合金杆(2)的中部垂直连接；二个激光测距仪(5)，激光测距仪(5‑1)置于硬塑井盖(4)下方，激光测距仪(5‑2)及其上配有灯的摄像头(6)置于铝合金杆(2)的底部。本实用新型的有益效果在于：结构简单，操作安全且方便，实现了测量人员免下井，且井室空间测量结果精确。

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