一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途

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专利状态

一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途

有效

专利申请进度

申请

2020-03-21

申请公布

2020-07-03

授权

2022-02-18

预估到期

2040-03-21

专利基础信息

申请号	CN202010203994.2	申请日	2020-03-21
申请公布号	CN111362584A	申请公布日	2020-07-03
授权公布号	CN111362584B	授权公告日	2022-02-18
分类号	C03C15/00
分类	玻璃；矿棉或渣棉;
申请人名称	郑州恒昊光学科技有限公司
申请人地址	河南省郑州市经济技术开发区第二十二大街121号

专利法律状态

2022-02-18

授权

状态信息

授权
2020-07-03

公布

状态信息

公布

摘要

本发明属于高硼硅玻璃蚀刻技术领域，具体涉及一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途。所述高硼硅玻璃蚀刻液的原料包括混合酸、氟氢化物、氟硅酸盐、表面活性剂、可溶金属硫酸盐、可溶金属盐酸盐、中间填充物和水，所述高硼酸玻璃蚀刻液的原料之间可形成稳定络合物；所述混合酸包括硫酸、硝酸、磷酸和盐酸，所述表面活性剂为硼砂。该高硼硅玻璃蚀刻液可对高硼硅玻璃进行均匀蚀刻，防眩效果好，可满足光电子领域的需求。

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