一种基于反射平均的连续光栅发生装置

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专利状态

一种基于反射平均的连续光栅发生装置

有效

专利申请进度

申请

2016-03-03

授权

2016-07-27

预估到期

2026-03-03

专利基础信息

申请号	CN201620160907.9	申请日	2016-03-03
授权公布号	CN205404959U	授权公告日	2016-07-27
分类号	G02B26/10
分类	光学;
申请人名称	上海数造机电科技股份有限公司
申请人地址	上海市浦东新区惠南镇沪南公路8666弄11号一层、二层

专利法律状态

2016-10-12

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G02B26/10；变更事项:专利权人；变更前:上海数造机电科技有限公司；变更后:上海数造机电科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:201204 上海市浦东新区惠南镇沪南路9628号1幢908室；变更后:201399 上海市浦东新区惠南镇沪南公路8666弄11号一层、二层
2016-07-27

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种基于反射平均的连续光栅发生装置。它包括投影仪和玻璃反射镜，投影仪正前方倾斜设置有玻璃反射镜。光栅发生器发出的光栅在经过玻璃反射镜的前后镜面反射，产生两种光栅，并错位叠加在一起形成连续边界的光栅。本实用新型在成本也不会增加太多的前提下用简单的方式弥补传统投影仪产生的光栅不连续的缺点。

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