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专利状态
投影设备及其光源装置
有效
专利申请进度
申请
2021-09-30
申请公布
2021-12-31
授权
2024-02-09
预估到期
2041-09-30
专利基础信息
申请号 CN202111160048.5 申请日 2021-09-30
申请公布号 CN113867090A 申请公布日 2021-12-31
授权公布号 CN113867090B 授权公告日 2024-02-09
分类号 G03B21/20
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 深圳市火乐科技发展有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区科技园中区科苑路15号科兴科学园B栋4单元10层01号
专利法律状态
  • 2024-02-09
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-01-21
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03B21/20;申请日:20210930
  • 2021-12-31
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本公开实施例公开了一种投影设备及其光源装置,其中光源装置包括激光模组、光学阵列组。激光模组包括模组载体以及多个激光发射器,多个激光发射器阵列设置于模组载体上;光学阵列组包括沿光轴方向依次设置于激光模组的一侧的多个光学阵列和多个透光层,光学阵列包括多个沿垂直光轴的平面阵列设置的光学单元,光学单元与所述激光发射器对应设置;各激光发射器射出的激光穿过所述透光层以及各自对应的多个光学单元。本公开通过设置多个光学阵列,每个光学阵列均包括多个沿垂直光轴的平面阵列设置的光学单元,光学单元与激光阵列中的激光发射器对应设置,减少了大尺寸透镜元件的使用,从而解决了现有技术中透镜元件尺寸过大导致空间浪费的问题。