一种基于等离子CVD法制取纳米羰基铁粉的装置

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专利状态

一种基于等离子CVD法制取纳米羰基铁粉的装置

有效

专利申请进度

申请

2023-05-19

授权

2024-03-01

预估到期

2033-05-19

专利基础信息

申请号	CN202321223509.3	申请日	2023-05-19
授权公布号	CN220549991U	授权公告日	2024-03-01
分类号	C01G49/16;C23C16/30;C23C16/50
分类	无机化学;
申请人名称	金川集团股份有限公司
申请人地址	甘肃省金昌市金川区金川路98号

专利法律状态

2024-03-01

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供了一种基于等离子CVD法制取纳米羰基铁粉的装置，包括球形反应器，所述球形反应器设有真空泵和电机，所述球形反应器内部设有电极，所述球形反应器端部分别设有压缩空气进口管和压缩空气出口管，所述球形反应器的侧部设有蒸发槽，所述蒸发槽设有进气管路和回气管路，且二者与球形反应器呈连通状，所述进气管路设有进气调节阀和隔膜泵，所述回气管路设有截止阀。本实用新型结构简单、易操作，安全性较好，同时产出产品质量较为稳定，且杂质含量较低，解决了羰化冶金工艺制取纳米羰基铁粉过程中纳米羰基铁粉活性高、比表面大、易发生歧化反应而不能量产的问题。

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