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专利状态
一种集成式高密度沉淀装置
有效
专利申请进度
申请
2022-07-04
授权
2022-12-13
预估到期
2032-07-04
专利基础信息
申请号
CN202221721079.3
申请日
2022-07-04
授权公布号
CN218025674U
授权公告日
2022-12-13
分类号
C02F9/04
分类
水、废水、污水或污泥的处理;
申请人名称
武汉天源环保股份有限公司
申请人地址
湖北省武汉市汉南区纱帽街薇湖西路392号
专利法律状态
2022-12-13
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型提供一种集成式高密度沉淀装置,其包括:沉淀池,沉淀池内部中空且顶部开口,沉淀池的内部沿竖直方向还设置有隔板,隔板分割沉淀池形成有颗粒形成区域和颗粒沉淀区域,隔板的底部沿水平方向还开设有通孔,以便颗粒形成区域和颗粒沉淀区域相连通,颗粒形成区域相对通孔还设置有倾斜端,便于颗粒形成区域的颗粒物进入颗粒沉淀区域,颗粒沉淀区域的底部还设置有锥形沉积端;分离组件,包括斜管和导流板,斜管沿水平方向设置于颗粒沉淀区域并位于通孔的上方,导流板内置于颗粒沉淀区域并相对通孔倾斜设置。本实用新型的沉淀装置设置有锥形沉降端,可通过颗粒物的自身重力沉降至沉淀池的底部并排出。
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