多柱并联电阻片柱电流分布不均匀系数范围测量方法

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专利状态

多柱并联电阻片柱电流分布不均匀系数范围测量方法

有效

专利申请进度

申请

2011-12-21

申请公布

2012-07-04

授权

2014-02-26

预估到期

2031-12-21

专利基础信息

申请号	CN201110431166.5	申请日	2011-12-21
申请公布号	CN102539962A	申请公布日	2012-07-04
授权公布号	CN102539962B	授权公告日	2014-02-26
分类号	G01R31/00;G01R19/00
分类	测量；测试;
申请人名称	金冠电气股份有限公司
申请人地址	河南省南阳市内乡县工业园区

专利法律状态

2014-02-26

授权

状态信息

授权
2012-09-05

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G01R 31/00申请日:20111221
2012-07-04

公布

状态信息

公开

摘要

本发明公开了一种多柱并联电阻片柱电流分布不均匀系数范围测量方法，其主要特点是先将被测量非线性金属氧化物电阻片柱组中的各电阻片柱随机组合分成若干电阻片柱分组，测量选出各电阻片柱分组中的电流值最大的1柱和最小的1柱，再将两柱一起测量，最后根据两柱的电流计算出电阻片柱组的电流分布不均匀系数范围。该方法实现了多柱并联电阻片柱最大电流分布不均匀系数的精确测量，而且测量方法简单，操作简便，测量数据可靠。

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