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专利状态

一种小青瓦屋面结构

有效

专利申请进度

申请

2021-07-08

授权

2021-12-03

预估到期

2031-07-08

专利基础信息

申请号	CN202121554265.8	申请日	2021-07-08
授权公布号	CN214995282U	授权公告日	2021-12-03
分类号	E04D1/02;E04D1/34;E04D11/02;E04D13/16
分类	建筑物;
申请人名称	杭州园林设计院股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市西湖区双龙街136号西溪世纪中心2号楼

专利法律状态

2021-12-03

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种小青瓦屋面结构，包括木椽，以及搭接于木椽上的第一底瓦，所述第一底瓦上方由下至上依次设有木望板、防水层和盖瓦底瓦构造，所述盖瓦底瓦构造固连于防水层上。针对传统的木椽和纯盖瓦底瓦构造的防水和耐久性较差的技术问题，本实用新型提供了一种小青瓦屋面结构，它能在不改变传统风貌的前提下，对建筑屋面的防水和耐久性做出了较大的提升。

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