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专利状态
图像摩尔纹校正方法及其电子设备和介质
有效
专利申请进度
申请
2021-01-05
申请公布
2021-04-02
授权
2023-03-10
预估到期
2041-01-05
专利基础信息
申请号
CN202110006964.7
申请日
2021-01-05
申请公布号
CN112598600A
申请公布日
2021-04-02
授权公布号
CN112598600B
授权公告日
2023-03-10
分类号
G06T5/00
分类
计算;推算;计数;
申请人名称
安谋科技(中国)有限公司
申请人地址
上海市闵行区田林路1016号科技绿洲三期11号楼
专利法律状态
2023-03-10
授权
状态信息
授权
2021-04-02
公布
状态信息
公布
摘要
本申请涉及图像处理技术领域,公开了一种图像摩尔纹校正方法及其电子设备和介质。本申请的方法包括:获取待校正图像;基于待校正图像中各像素点的亮度分量值,确定像素点是否位于摩尔纹区域;在像素点位于摩尔纹区域的情况下,对像素点进行摩尔矫正。本申请的摩尔纹校正方法通过检测待校正图像中某一方向上的多个连续的像素点之间的亮度变化,确定多个连续的像素点之间的亮度是否出现阶跃,在发生阶跃的像素点的数目大于阶跃阈值的情况下,确定该待检测像素点处于摩尔纹区域,使得电子设备能够更加准确地确定并校正待校正图像中的摩尔纹。
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