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专利状态
超短焦投影光学系统及投影设备
有效
专利申请进度
申请
2021-08-02
授权
2022-02-25
预估到期
2031-08-02
专利基础信息
申请号 CN202121786640.1 申请日 2021-08-02
授权公布号 CN215910780U 授权公告日 2022-02-25
分类号 G03B21/14;G03B21/00;G02B13/18;G02B13/00
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 中山联合光电科技股份有限公司
申请人地址 广东省中山市火炬开发区益围路10号1-3楼
专利法律状态
  • 2022-02-25
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开一种超短焦投影光学系统,包括沿投射方向依次设置的显示单元、具有正光焦度的第一透镜组、具有正光焦度的第二透镜组、具有负光焦度的第三透镜组以及非球面反射镜,其中,所述第一透镜组包括沿所述投射方向依次设置的第一透镜、第二透镜以及光阑,所述第一透镜为玻璃非球面镜片,所述第二透镜为玻璃球面镜片,且所述第一透镜和所述第二透镜分别自其中心至其周缘呈逐渐朝向所述光阑的方向弯曲。本实用新型提供的超短焦投影光学系统及投影设备,能够在实现大光圈的要求下,同时兼具有高分辨率的优点。