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专利状态
一种染料色阻及其制备方法、彩膜基板
有效
专利申请进度
申请
2019-12-27
申请公布
2020-05-05
授权
2023-10-17
预估到期
2039-12-27
专利基础信息
申请号 CN201911372588.2 申请日 2019-12-27
申请公布号 CN111103761A 申请公布日 2020-05-05
授权公布号 CN111103761B 授权公告日 2023-10-17
分类号 G03F7/004;G02F1/1335;G03F7/00
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
专利法律状态
  • 2023-10-17
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-05-29
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03F7/004;申请日:20191227
  • 2020-05-05
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请公开了一种染料色阻及其制备方法、彩膜基板,染料色阻包括低聚物链段,所述低聚物链段包括苯环基团或环氧结构基团。本发明的有益效果在于本发明的染料色阻通过链接化学反应将染料分子与低聚物链段相连,其中,低聚物链段设有苯环或环氧结构等耐热结构,能够有效提升染料色阻的耐热性能。