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专利状态
网络分布式flash烧录系统
有效
专利申请进度
申请
2020-08-19
授权
2021-07-02
预估到期
2030-08-19
专利基础信息
申请号 CN202021735110.X 申请日 2020-08-19
授权公布号 CN213602664U 授权公告日 2021-07-02
分类号 H04L29/08;G06F8/61
分类 电通信技术;
申请人名称 湖南恒茂高科股份有限公司
申请人地址 湖南省株洲市醴陵市陶瓷科技工业园B区
专利法律状态
  • 2021-07-02
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种网络分布式flash烧录系统,包括:多个客户端,客户端包括第一CPU、开关和至少一个flash座子,开关与flash座子电性连接以用于控制flash座子的供电,CPU与flash座子相连以用于传输烧录数据,开关与CPU电性连接以用于反馈flash在位信号;服务端,服务端包括控制终端、服务器,控制终端与服务器通过网络连接以用于上传烧录文件,服务器分别与第一CPU通过网络连接以用于传输烧录数据。采用分布式网络实现一个服务器控制多台客户端进行烧录,能够实现多片flash同时烧录,烧写效率高,可以充分利用人力和时间。此外采用开关来关闭flash座子的供电;确认flash放好后再将开关拨回给flash座子供电,保证了烧录过程的可靠性和安全性。