平面有源屏蔽梯度线圈的制作方法

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专利状态

平面有源屏蔽梯度线圈的制作方法

有效

专利申请进度

申请

2006-11-29

申请公布

2008-06-04

授权

2010-05-12

预估到期

2026-11-29

专利基础信息

申请号	CN200610144180.6	申请日	2006-11-29
申请公布号	CN101191829A	申请公布日	2008-06-04
授权公布号	CN101191829B	授权公告日	2010-05-12
分类号	G01R33/385;G01R33/421
分类	测量；测试;
申请人名称	北京万东医疗科技股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼

专利法律状态

2017-08-11

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G01R33/385；变更事项:专利权人；变更前:华润万东医疗装备股份有限公司；变更后:北京万东医疗科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼；变更后:100016 北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼；变更事项:共同专利权人；变更前:北京大学；变更后:北京大学
2012-07-11

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G01R33/385；变更事项:专利权人；变更前:北京万东医疗装备股份有限公司；变更后:华润万东医疗装备股份有限公司；变更事项:地址；变更前:100022 北京市朝阳区建国门外郎家园6号；变更后:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路9号院3号楼；变更事项:共同专利权人；变更前:北京大学；变更后:北京大学
2010-05-12

授权

状态信息

授权
2008-07-30

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2008-06-04

公布

状态信息

公布

摘要

本发明一种平面有源屏蔽梯度线圈的制作方法，涉及磁共振成像系统中使用的平面有源屏蔽梯度线圈技术，首先根据设计指标确定初步草案，利用梯度磁场反演计算软件进行模拟计算得到原始设计方案，然后使用大型商用电磁场仿真计算软件对原始方案进行正演验证计算，经过反演计算和正演验证反复修正设计方案，形成梯度线圈前期设计方案，依据该方案完成梯度线圈样品试制，并对相关技术指标进行测试，根据测试结果对设计方案进行进一步的改进完善，得到高性能平面有源屏蔽梯度线圈。本发明方法制作的梯度线圈，产生梯度磁场强、梯度磁场线性度均匀、磁场切换速度快、有效抑制涡流。

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