一种光学元件及投影系统_专利查询-品牌网

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专利状态

一种光学元件及投影系统

有效

专利申请进度

申请

2021-12-17

授权

2022-05-03

预估到期

2031-12-17

专利基础信息

申请号	CN202123188717.8	申请日	2021-12-17
授权公布号	CN216434423U	授权公告日	2022-05-03
分类号	G02B5/04;H04N9/31
分类	光学;
申请人名称	极米科技股份有限公司
申请人地址	四川省成都市高新区世纪城路1129号天府软件园A区4栋

专利法律状态

2022-05-03

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开一种光学元件，包括第一棱镜和第二棱镜，第一棱镜临近调制元件设置，所述第一棱镜的第一表面与所述第二棱镜的第四表面相邻并且两个表面之间填充有间隙介质层，所述间隙介质层的折射率在光路传输所在的剖面上沿着第一表面的一端边缘向另一端边缘的方向增加，所述间隙介质层的最大折射率小于第一棱镜的折射率。本实用新型所述的光学元件和投影系统利用折射率存在变化的间隙介质层来使光束更好的按照预设要求进行透射以及全反射，减少光损失，提高出光量，提高光束通过光学元件的效率。

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