一种匀光装置及投影系统_专利查询-品牌网

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专利状态

一种匀光装置及投影系统

有效

专利申请进度

申请

2021-12-31

授权

2022-07-08

预估到期

2031-12-31

专利基础信息

申请号	CN202123424201.9	申请日	2021-12-31
授权公布号	CN216927358U	授权公告日	2022-07-08
分类号	G03B21/20
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	极米科技股份有限公司
申请人地址	四川省成都市高新区世纪城路1129号天府软件园A区4栋

专利法律状态

2022-07-08

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开一种匀光装置，包括反射镜片，所述反射镜片设置若干个并相互拼合以构成通道件，所述通道件呈弯折形的路径。本实用新型所述的匀光装置结构简单、紧凑，在保障光充分反射以提高光均匀化效果的同时减小占用空间，有利于减小投影系统的体积，满足小型化发展的需求，易于实施，成本低。

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