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专利状态
NandFlash脱机裸片烧程设备
有效
专利申请进度
申请
2021-01-05
授权
2021-09-14
预估到期
2031-01-05
专利基础信息
申请号 CN202120029278.7 申请日 2021-01-05
授权公布号 CN214202348U 授权公告日 2021-09-14
分类号 G06F8/61
分类 计算;推算;计数;
申请人名称 杭州海兴电力科技股份有限公司
申请人地址 浙江省杭州市拱墅区莫干山路1418号(上城工业园区)
专利法律状态
  • 2021-09-14
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本申请涉及一种NandFlash脱机裸片烧程设备,包括PCB板、电源供给装置和多个烧录单元,电源供给装置设置于PCB板上,多个烧录单元并列的设置于PCB板上,且每一个烧录单元均与电源供给装置电连接;烧录单元包括主芯片、NandFlash烧写座、拨码开关和NorFlash存储器,这四个元器件均焊接于PCB板上,且均与主芯片连接,NorFlash存储器包括第一存储器、第二存储器和第三存储器。本申请提供的NandFlash脱机裸片烧程设备可以实现脱机下的NandFlash裸片烧录,大大提高了生产效率,节省了人工成本,减少占用生产资源。该NandFlash脱机裸片烧程设备便携,不占用特定工位,便于维护,自主开发,降低公司易耗品采购成本。