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专利状态

高均匀度陶瓷喷砂装置

有效

专利申请进度

申请

2019-08-14

授权

2020-05-22

预估到期

2029-08-14

专利基础信息

申请号	CN201921314465.9	申请日	2019-08-14
授权公布号	CN210588832U	授权公告日	2020-05-22
分类号	B24C3/04;B24C9/00;B24C5/02
分类	磨削；抛光;
申请人名称	广宁广陶陶瓷有限公司
申请人地址	广东省肇庆市广宁县南街镇本策村委会东乡路段

专利法律状态

2020-05-22

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供了一种高均匀度陶瓷喷砂装置，包括：支架结构、进料漏斗、喷砂机构、承载平台、用于供承载平台安装于其上并在水平范围内振动所述承载平台的振动机构；所述进料漏斗以及所述喷砂机构均设置于所述支架结构上，所述进料漏斗的出料口设置有多个用于出料的出料管，每一所述出料管分别通过一传输管与所述喷砂机构连接，所述喷砂机构位于所述承载平台上方以用于朝向所述承载平台上的瓷砖进行喷砂。本实用新型可以提高高均匀度陶瓷喷砂装置喷砂的均匀性。

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