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专利状态
一种阻垢靶材及其制备和应用
有效
专利申请进度
申请
2022-11-23
申请公布
2023-03-14
授权
2024-01-02
预估到期
2042-11-23
专利基础信息
申请号 CN202211476438.8 申请日 2022-11-23
申请公布号 CN115786792A 申请公布日 2023-03-14
授权公布号 CN115786792B 授权公告日 2024-01-02
分类号 C22C29/12;C22C1/051;C23C14/14;B22F3/10;C23C14/35;C02F1/48;JPH05315180A,1993.11.26;CN112004642A,2020.11.27;JP2003123228A,2003.04.25;CN1330692A,2002.01.09;CN1128575A,1996.08.07;JP6938743B1,2021.09.22任勇;吕世雅;徐光亮;李诗;.M型铁氧体BaNi_(x/2)Co_(x/2)Zr_xFe_(12-2x)O_19纳米
分类 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理;
申请人名称 九牧厨卫股份有限公司
申请人地址 福建省泉州市南安经济开发区九牧工业园
专利法律状态
  • 2024-01-02
    授权
    状态信息
    授权
  • 2023-03-31
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C22C29/12;申请日:20221123
  • 2023-03-14
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请提供了一种阻垢靶材及其制备和应用,所述阻垢靶材中,钡铁氧体为基体,Cu、Sn、Ni、Cr、Ti、Zr均匀地以弥散形式分布在所述基体中,靶材中钡铁氧体为84wt.%至95wt.%,Cu为0.6wt.%至2.4wt.%、Sn为0.9wt.%至3.6wt.%,Ni为0.8wt.%至2.4wt.%、Cr为1.2wt.%至3.6wt.%,Ti为0.5wt.%至2.0wt.%、Zr为0.5wt.%至2.0wt.%。本申请提供的阻垢靶材制得的镀膜层化学性质稳定,长时间使用不会像化学阻垢一样污染水体。本申请提供的镀膜层可以与水体近距离接触而不用像常规磁场阻垢一样需穿过水管等物质,这不仅可以使得所需磁场强度降低、而且不用外接电源,并且镀膜可以在任意形状产品上实施,不受产品形状的安装限制。