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专利状态
一种肟基有机硅化合物的制备方法
有效
专利申请进度
申请
2012-01-05
申请公布
2012-07-04
授权
2015-07-15
预估到期
2032-01-05
专利基础信息
申请号 CN201210001598.7 申请日 2012-01-05
申请公布号 CN102532186A 申请公布日 2012-07-04
授权公布号 CN102532186B 授权公告日 2015-07-15
分类号 C07F7/18
分类 有机化学〔2〕;
申请人名称 北京天山新材料技术有限公司
申请人地址 北京市石景山区八大处高科技园区双园路5号
专利法律状态
  • 2015-07-15
    授权
    状态信息
    授权
  • 2015-01-07
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):C07F7/18;变更事项:申请人;变更前:北京天山新材料技术股份有限公司;变更后:北京天山新材料技术有限公司;变更事项:地址;变更前:100041 北京市石景山区八大处高科技园区中园路7号;变更后:100041 北京市石景山区八大处高科技园区双园路5号
  • 2012-09-05
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C07F7/18;申请日:20120105
  • 2012-07-04
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明是一种肟基有机硅化合物的制备方法,包括步骤:1)加热RaSi(OR1)4-a与HON(R2)(R3)组成的混合物;2)在减压的条件下脱除副产物;其中,R是由1到20个碳组成的直链、支链或环状的饱和或不饱和烷烃,芳烃或含其他取代基团的有机烃;R1是有1到6个碳组成的烷烃,包括甲基,乙基,丙基,异丙基,丁基,异丁基,叔丁基;R2,R3是相同或不同的由0到10个碳组成的烷烃;a是0到3的整数。本制备过程不仅不会产生酸性物质,从而去除了安全隐患,而且该过程使反应有效地进行,提高了反应的有效性与转化率,降低了反应的温度,缩短了反应时间,可用于肟基有机硅烷的制备,尤其是适用于反应活性高,对温度敏感的肟基硅烷的合成。