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专利状态
一种阴图平印版前体及阴图平印版
有效
专利申请进度
申请
2019-12-16
申请公布
2021-06-18
授权
2023-03-10
预估到期
2039-12-16
专利基础信息
申请号
CN201911296035.3
申请日
2019-12-16
申请公布号
CN112976859A
申请公布日
2021-06-18
授权公布号
CN112976859B
授权公告日
2023-03-10
分类号
B41N1/08;G03F7/038;G03F7/033;G03F7/004
分类
印刷;排版机;打字机;模印机〔4〕;
申请人名称
乐凯华光印刷科技有限公司
申请人地址
河南省南阳市卧龙区车站南路718号
专利法律状态
2023-03-10
授权
状态信息
授权
2021-06-18
公布
状态信息
公布
摘要
本发明的目的在于提供一种阴图平印版前体及阴图平印版,一种阴图平印版前体,包含版基和版基之上的成像层,成像层包含:(1)聚合物粘结剂;(2)可聚合/交联的组分,包含可光聚合的预聚体;(3)成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系;成像层中可光聚合的预聚体为为微米乳液颗粒或微纳米乳液颗粒或者二者的混合物,即微纳米乳液颗粒。这种免处理平印版在用红外激光扫描曝光后,可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷,即该平印版为阴图在机显影型免处理版。而且本发明免处理平印版,克服了现有技术各种方法制得的免处理平印版开机宽容度不高的缺点,实现了较少的开机过版纸数和较快的达成水墨平衡。
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