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专利状态
一种阴图平印版前体及由其制备平印版的方法
有效
专利申请进度
申请
2017-11-08
申请公布
2019-05-14
授权
2023-03-28
预估到期
2037-11-08
专利基础信息
申请号
CN201711093741.9
申请日
2017-11-08
申请公布号
CN109752921A
申请公布日
2019-05-14
授权公布号
CN109752921B
授权公告日
2023-03-28
分类号
G03F7/00;G03F7/032;B41C1/10
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
乐凯华光印刷科技有限公司
申请人地址
河南省南阳市卧龙区车站南路718号
专利法律状态
2023-03-28
授权
状态信息
授权
2019-05-14
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种阴图平印版前体,包含版基和版基之上的成像层,成像层包含:(1)聚合物粘结剂;(2)成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系;(3)可聚合/交联的组分,包含含有酰胺基团或磺酰胺基团的聚氨酯丙烯酸酯低聚物。本发明克服了背景技术所述各种方法制得的免处理平印版的耐印力不足的缺点,克服了背景技术所述各种方法制得的免处理平印版不能适应UV油墨印刷的缺点,在保证较少的开机过版纸数和高质量网点的同时,提高了在UV油墨印刷时的耐印力。
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