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专利状态
仪表盘结构
有效
专利申请进度
申请
2017-06-16
申请公布
2019-01-04
授权
2020-08-25
预估到期
2037-06-16
专利基础信息
申请号 CN201710461315.X 申请日 2017-06-16
申请公布号 CN109141503A 申请公布日 2019-01-04
授权公布号 CN109141503B 授权公告日 2020-08-25
分类号 G01D11/28
分类 测量;测试;
申请人名称 本田技研工业(中国)投资有限公司
申请人地址 北京市朝阳区东三环北路5号北京发展大厦301室、303-321室
专利法律状态
  • 2020-08-25
    授权
    状态信息
    授权
  • 2019-01-29
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):G01D 11/28
  • 2019-01-04
    公布
    状态信息
    公布
摘要
一种仪表盘结构,具有位于仪表盘表侧的文字板、通过驱动部驱动转动的指针、安装指针的壳体和进行照明的光源,文字板设有透光带,该透光带上形成表示计测量的指标部,指针对指标部的计测量进行指示,其中,指针上设置有遮光部,在从仪表盘表侧观察时,遮光部沿指针的长度方向上延伸并覆盖指针的转动方向的一侧,用于遮蔽从指针的转动方向的一侧射出的光线,在指针上被遮光部遮蔽的一侧设置有折射部,折射部在指针的长度方向上位于指针的中心侧的旋转中心部与指针的前端之间,折射部将光线从指针被遮光部遮蔽的一侧折射向未被遮蔽的另一侧。据此,这种仪表盘结构,充分利用光源射出的光线,无需加强光源强度即可保证最佳的观察性。